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发布时间:2022-01-10 04:30:27
为了使金属装饰镀膜比以前传统的水电镀单调颜色增加了更多元性的镀膜种类。如果是以真空镀氮化膜层做底色的话,这样再想做水电镀的颜色也少,加工品种也会受到限制的。在颜色上面的搭配,颜色的视觉反差不大双色的效果的产品不那么多,印染等涂层影响表面使用寿命和效果,镀钛厂家发现采取印染或者喷镀的方式在金属表面加工图案,但镀钛厂家发现加工图案的低耐磨性和他的低附着性影响了整个产品的使用寿命。
霍尔离子源的特征在哪?
首先阴极在离子源腔内产生等离子体,然后通过两三层阳极栅将离子从等离子体腔中抽出。该离子源方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜。缺点是阴极(通常是钨丝)在反应气体中很快烧坏,离子通量有限,可能会让需要大离子通量的用户不舒服。霍尔离子源是一种阳极,在强轴向磁场的作用下对过程气体进行等离子体处理。这种轴向磁场的强烈不平衡分离了气体离子并形成离子束。由于轴向磁场太强,霍尔离子源的离子束需要补充电子来中和离子电流。常见的中和源是钨丝(阴极)。霍尔离子源的特征在于:
面涂:通常面涂的目的有以下两个方面
面涂:通常面涂的目的有以下两个方面:A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性;B、为水染着色提供可能。SZ-97油系列产品均可用于面涂,若镀件不需着色,视客户要求,可选用9911-1哑光油、889透明油、910哑光油等面油涂装。面涂烘干:通常面涂层较底涂层薄,故烘干温度较低,约50-60oC,时间约1~2小时,用户可根据实际情况灵活把握,终应保证面涂层干燥。果镀件不需着色,则工序进行到此已经结束。
真空镀膜pvd工艺流程
真空镀膜pvd工艺流程具体说明如下:表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥,避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。对于特殊材料,如PE(聚乙烯)料等,还应对其进行改性,以达到镀膜的预期效果。底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等具体情况及客户的质量要求而定。采用喷涂方法,可采用SZ-97T镀膜油;采用浸涂方法,可采用SZ-9SZ-97+1等油,具体应视镀件材料而定。
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