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真空室内蒸发舟的解决方法

原因：蒸发舟内铝料太满。解决方法：下降送铝速度；前进蒸发舟电流。真空室内蒸发舟之间呈现短路。解决方法：打扫短路。真空室内杂质飞溅镀铝时薄膜呈现拉伸现象原因：基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力操控系统，恰当减少张力。冷却系统作业反常。解决方法：查看冷却系统，并打扫毛病。薄膜外表呈现褐色条纹原因：真空度低解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊；查看抽真空系统；下降环境湿度。薄膜开释气体。解决方法：薄膜预单调；延伸抽真空时刻。喷铝过多。解决方法：前进车速；下降蒸发舟电流；下降送铝速度。蒸发舟内有杂质。解决方法：清洗蒸发舟及热屏蔽板。

镀耐磨装饰膜,膜厚较大,要求与机体结合牢固,但均匀性要求不高

如果镀耐磨装饰膜，膜厚较大，要求与机体结合牢固，但均匀性要求不高。霍尔离子源可用。它具有高离子电流和高离子能级。如果涂有光学薄膜，主要要求离子电流水平集中，离子电流均匀性好。所以使用考夫曼或射频离子源，有条件可以使用ECR(电子回旋)或ICP(电感耦合)离子源。另外还要考虑耗材，比如钨丝的霍尔源，在反应气体中十个小时就会烧坏。而离子源，如ICP离子源，可以在反应气体中连续工作数百小时。

化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)

与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”(ionplatin离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。