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镀耐磨装饰膜,膜厚较大,要求与机体结合牢固,但均匀性要求不高

如果镀耐磨装饰膜，膜厚较大，要求与机体结合牢固，但均匀性要求不高。霍尔离子源可用。它具有高离子电流和高离子能级。如果涂有光学薄膜，主要要求离子电流水平集中，离子电流均匀性好。所以使用考夫曼或射频离子源，有条件可以使用ECR(电子回旋)或ICP(电感耦合)离子源。另外还要考虑耗材，比如钨丝的霍尔源，在反应气体中十个小时就会烧坏。而离子源，如ICP离子源，可以在反应气体中连续工作数百小时。

溅射镀膜的基本原理:充(Ar)气的真空环境中

溅射镀膜的基本原理：充(Ar)气的真空环境中，当(Ar)原子被电离，形成离子(Ar)时，离子在电场力的作用下，加速轰击用镀料制成的阴极靶，靶将溅射出来并沉积在工件表面。溅射膜中的入射离子，一般是通过辉光放电获得的，在l0-2Pa~10Pa范围内，因此溅射出的粒子在飞向基体时，容易与空气中的气体分子发生碰撞，使其运动方向随机，沉积的薄膜容易均匀。

这个名字仍然没有坚持，因为在同一年，德国化学家马丁·海因里希·克拉普罗斯发现了另一种名为“金红石”的矿物中的金属元素，现在已知其主要由二氧化钛（TiO组成。）。在希腊神话中的“泰坦”之后，他将这种新金属更具想象力地命名为“钛金属”。由于克拉普罗斯是一位受欢迎的，成熟的化学家，他的关系很好，但这个名字仍然存在，尽管格雷戈里因为首先发现它而受到赞誉