金属不锈钢镀钛报价服务介绍「多图」

PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术)，这些方法统称物***相沉积(PhysicalVaporDepoition)，简称为PVD。

要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，严重的还会脱钛。好的设备弧源离化率高，形成的离子密度大，大颗粒少，镀出的膜层光滑度高，磨擦系数小，坚固不脱落，差的设备离化率低，镀出来的膜层粗糙没光泽，容易刮花脱落。

真空镀膜的前处理是指对目标产品进行清洁。比如一把刀具，肉眼可见的和肉眼不可见的细微小孔都会藏有影响膜层质量的***。所以对产品的前处理的要求是非常严格的，因为只有完全清洗干净的产品才能避免产品“脱钛”。车间的扬尘、空气中的水气等等看似很细微的因素都是影响膜层质量的重要原因。在镀膜的过程中就算是一个小小的灰尘附着在产品表面，那么镀出来的膜层就会产生白点，严重的还会造成膜层的脱落。所以，车间空气洁净度一定要达标。

真空镀膜技术是一项新兴的技术

真空镀膜技术是一项新兴的技术，国际上直到60年代才开始将CVD(化学气相镀膜)技术应用到硬质合金工具中。因为这种方法需要在高温(工艺温度高于1000oC)下进行，且涂层类型单一，局限性很大，所以在开发初期还有待改进。离子镀膜的基本原理：在真空条件下，采用一定的等离子体离子化技术，使镀层原子部分离子化，同时产生大量高能中性原子，并在镀层表面施加负偏压。因此，在深度负偏压作用下，离子沉积在基体表面形成薄膜。