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PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术)，这些方法统称物***相沉积(PhysicalVaporDepoition)，简称为PVD。

镀钛是用化学方法使钛金属附着在别的物体表面上，形成的钛镀层具有的抗蚀性。可用于保护被镀物体，提高表面耐磨性，亦有将钛或其化合物（如氮化钛）镀到物体表面统称为镀钛真空镀钛或钛的化合物，可以做成金黄、黑色、灰、红棕色、橙色等很多种颜色，增加美观效果.并且仿金镀膜氮化钛，可以以少的成本，达到人们喜爱的黄外观。钛或则钛的许多化合物，具有抗酸抗碱的功能，钛的许多化合物如氮化钛、钛化钛，不但比一般金属硬度高，而且耐温耐湿、提高表面抗磨损能力；

在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件(CCD)也都甬道各种薄膜。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

基础的真空镀膜知识_新闻中心

真空镀膜-基础的真空镀膜知识真空镀膜是由真空镀膜机完成的，其工作流程及原理为：基片通过镀膜机的机械手的搬运，进入到镀膜机的真空腔体里，经过高压电离的离子在强电场及强磁场的作用下，产生高速运动，轰击靶材表面，激发出的金属离子附着在基片表面，形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：真空：用真空泵抽掉容器中的气体，使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。