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PVD灯具的铝涂层真空镀膜

PVD灯具的铝涂层真空镀膜。因为是金属薄膜，DC磁控溅射当然好。速度快。中频适合镀复合膜。如果选择离子源，霍尔离子源就足够了。但是要注意灯具的大小。一般霍尔离子源为圆形，离子源覆盖面积有限。你必须用离子束覆盖所有工件。如果普通霍尔离子源太小，可以考虑阳极层离子源。离子源难以发光的一个原因是磁场太弱，无法激发等离子体。虽然离子源种类很多，但基本上是先产生等离子体，然后从等离子体中提取气体离子，加速成离子束，以便后期注入电子，根据需要中和离子流。

化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)

与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”(ionplatin离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。

提取过程仍然没有人能够在18或19世纪分离出高纯度的钛样品。在接下来的几年里，这项壮举是由一些资源丰富的化学家实现的。1910年，新西兰化学家MatthewHunter对Nilsen和Pettersen于1887年开发的化学工艺进行了改进和改进，使用钠提取了99.9％具有延展性的纯金属钛。这使得钛可用于各种应用。